99 poudre d'alumine

99 poudre d'alumine

99 La poudre d'alumine a une forte résistance, dureté, une résistance à l'usure, une stabilité à haute température et la capacité de résister à l'érosion à partir de matériaux fondus à haute température . sa grande pureté et sa taille de particules contrôlables peuvent considérablement améliorer les performances des produits et la durée substrats .
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Description

Paramètres techniques

Introduction du produit de 99 poudre d'alumine

99 La poudre d'alumine est une poudre blanche et non fixe qui est difficile à dissoudre dans l'eau ., c'est un matériau en céramique principalement composé d'oxyde d'aluminium (Al2O3) et est utilisé pour des circuits intégrés de film épais . 99 La poudre d'alumine a une bonne conductivité, une résistance mécanique et une résistance à haute température . sa rockwell est une résistance à la rockwel HRA 80-90, deuxième seulement contre le diamant en dureté, dépassant de loin la résistance à l'usure de l'acier et de l'acier inoxydable à l'usure . Il n'a pas d'odeur, pas de goût, une forte stabilité chimique, une forte isolation, une forte pureté et une gravité spécifique élevée . le pourcentage d'alumina de haute pureté, la poudre d'alumine est généralement plus grande que 99 {13} Et même jusqu'à 99 . 999% ou plus . Cette pureté élevée lui donne une excellente résistance à haute température, avec une température d'utilisation normale jusqu'à 1600 degrés et à court terme de température jusqu'à 1800 degrés. De plus, la poudre d'alumine de haute pureté a également une bonne résistance au refroidissement soudain et au chauffage, et n'est pas facile à exploser, ce qui offre la possibilité de son application dans des environnements extrêmes.

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Champs d'application de 99 poudre d'alumine

Les champs d'application de la poudre d'alumine 99 sont extrêmement larges, couvrant presque toutes les industries qui nécessitent des matériaux haute performance .

 

Dans les champs de LED et de semi-conducteur, la poudre d'alumine de haute pureté est une matière première clé pour la fabrication de cristaux de saphir, qui sont des substrats importants pour les puces LED ., en raison de ses excellentes performances d'isolation électrique et de la poudre d'alumine à haute pureté est également largement utilisée dans la fabrication de composants de semi-conducteurs .

Dans le champ aérospatial, la poudre d'alumine 99 est utilisée pour fabriquer des matériaux haute performance tels que la céramique à haute température et les revêtements de barrière thermique en raison de sa résistance à haute température et de sa résistance soudaine de refroidissement et de chauffage . Ces matériaux sont cruciaux pour améliorer Les séparateurs, qui améliorent la durée de sécurité et le cycle des batteries et fournit un support de matériaux fiable pour les véhicules électriques et les systèmes de stockage d'énergie .

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In the field of optics, 99 alumina powder can be used to manufacture optical components such as lenses and prisms, as well as as as a raw material for optical coatings to improve the transparency and stability of optical components. Meanwhile, in the medical field, high-purity alumina powder is used to manufacture bioceramics, such as artificial joints and dental implants, and is highly favored due to its bonne biocompatibilité et résistance à la corrosion .

De plus, la poudre d'alumine 99 est également une matière première importante pour la fabrication de matériaux haute performance tels que la céramique avancée, la céramique électronique et les porteurs de catalyseurs . Ces matériaux jouent un rôle irremplacable dans des champs tels que les appareils électroniques, la nouvelle énergie, les matériaux catalytiques et les matériaux aérospatiaux.,

 

 

Composition chimique et propriété physique

 

 

Caractéristiques / méthodes

Unité

CT9 FG

CT800 FG

CT800 SG

CT10 SG

Typique

Min

Max

Typique

Min

Max

Typique

Min

Max

Typique

Min

Max

NA2O

%

0.15

 

0.30

0.12

 

0.15

0.12

 

0.15

0.40

 

0.5

FE2O3

%

0.04

 

0.06

0.02

 

0.04

0.02

 

0.04

0.03

 

0.04

Mgo

%

0.01

 

 

<0.002

 

 

<0.002

 

 

<0.002

 

 

Sio2

%

0.03

 

0.06

0.02

 

0.04

0.02

 

0.04

0.01

 

0.05

Cao

%

0.02

 

 

0.02

 

 

0.02

 

 

0.01

 

 

Surface / pari

M2/g

0.8

 

 

0.9

0.70

1.2

1.0

0.80

1.50

13.0

 

 

CILAS D50

μm

5.0

2.0

7.0

3.5

2.5

5.0

3.4

2.5

4.0

3.0

 

 

Distribution des particules

 

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